Yaqhaxa gas-Método de fase, método de deposición química de vapor (CAV) ukawa, ukaxa método de pirólisis, waña thakhi jan ukaxa combustión uka thakhimpiwa uñt’atarakiwa. Uka primas ukanakax tetracloruro de silicio, oxígeno (jan ukax aire) ukat hidrógeno ukanakawa, ukax wali jach’a temperaturanakanwa reaccionapxi.
The reaction equation is: SiCl4+2H2+O2 - >Sio2+4HCL ukax mä juk’a pachanakanwa. Aire ukatxa hidrógeno ukaxa wali sumawa presurización, separación, refrigeración ukatxa deshidratación, gel de sílice wañt’ayaña, laq’a apsuña ukhamaraki filtración janïra horno de hidrólisis sintética uksaru apayatäkipana. Uka materia prima de tetracloruro de silicio ukaxa columna de destilación uksaruwa apayataraki, ukaxa junt’uchatarakiwa ukatxa evaporador uksaruwa evaporador uksa tuqiruxa puriraki, ukatxa horno de hidrólisis sintética uksaruwa waña ukhamaraki filtrado sata portador satakisa ukampi apayataraki. Tetracloruro de silicio ukaxa wali jach’a temperaturas (temperatura de bandera 1000-1800 grado ) ukjamaraki gas-hidrólisis de fase ukampi mä juk’a hidrógeno ukatxa oxígeno (jan ukaxa aire) ukampi niya 1800 grados ukjaruwa puriraki. Aka chiqanxa, partículas de sílice de fase de gases ukanakaxa wali sumawa ukatxa aerosoles ukanakaxa gases ukanakampiwa lurataraki, ukaxa ch’amawa katjañataki.
Ukatwa, nayraqatax mä agregador ukan jach’a partículas ukar apthapita, ukatx mä separador de ciclón ukan apthapita, ukatx horno desacidificación ukar khithatarakiwa. Gas-sílice de fase ukaxa nitrógeno-Aire ukampi jariqatawa pH ukaxa 4 ukatxa 6 ukjakamawa, ukaxa tukuyatawa .